what is the reasonable base pressure in decorative PVD deposition, especially in cathodic arc technique, especially in TiN decorative cathodic arc deposition?
For PVD of cathodic arc technique the base pressure should be in the range of 5*10^-5 torr or better to get high quality film.
سلام دما و فشار متقابل عمل میکنند. اگر فشار رو نمیتونید خیلی کم کنید، افزایش دما یه مقدار مشکل فشار رو کم میکنه
منظورم افزایش دمای محفظه نیست. منظور دمای ریز لایه هست. به شرطی که دما باعث تخریب ساختار زیرلایه نشه
اضافه کردن آرگون و حرکت دادن نمونه هم میتونه کمک کنه تا غیر یکنواختی رو هم جبران کنه
For cutting tool coating using pulsed DC closed field unbalanced magnetron reactive sputtering technique, a base pressure of 0.2 mPa or 1.5 micro-Torr is used.
You may kindly refer to the following:
Article Effect of Target Frequency, Bias Voltage and Bias Frequency ...
- Badges
- Science topic
- Similar topics
- Biological Science
- Bioecology
- Systems Ecology
- Landscape Ecology
- Connectivity